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CIF專注材料表面處理技術,為客戶提供專業(yè)清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應用工藝解決方案！產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品詳情
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、線 路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
產(chǎn)品特點
◆ 7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20 個配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。
◆ PLC 控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。
◆ 用美國德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計或質(zhì)量流量計 (CPC-FM)，可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體，氣體控制準確。
◆ 氣體返填吹掃，HEPA 高效過濾，防止二次污染。
◆ 316 不銹鋼、石英真空艙可選擇，全真空管路系統(tǒng)采用316 不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。
◆ 采用 60 度傾角操作面板設計，符合人體功能學，操作方便，界面友好。
◆ 上控制下艙體結(jié)構設計，結(jié)構緊湊，占地空間小。
◆ 內(nèi)凹式前面板設計，有效保護流量計和艙門不易損壞。
◆ 處理快速高效均勻，無污染，工藝重復性好。
◆ 樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。
◆ 安全保護，艙門打開，自動關閉電源。
2024-07-26 
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